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LAMPLAN贺利氏olishing抛光布类型介绍
点击次数:622 发布时间:2015-12-28
   Polishing抛光布是材料机械制样的zui后一道工序。为了消除精磨引起的变形,需选用更为柔软的平面,配合更小粒径的抛光布液体。贺利氏Heraeus Kulzer Technocloth抛光布。
 
Polishing抛光布
   抛光布是材料机械制样的zui后一道工序。为了消除精磨引起的变形,需选用更为柔软的平面,配合更小粒径的抛光布液体。
 
   贺利氏古莎抛光布既可以用于自动磨抛也可用于手动磨抛,拥有与目前市场上主流磨抛设备支持盘尺寸匹配的抛光布布型号。为便于客户使用,贺利氏古莎Technocloth抛光布有三种固定模式:自粘型,静电吸附型和磁性吸附型。特有的三层结构保证了抛光布工作时zui佳平整度。同时也使得抛光布本身在FAS®固定系统盘上快速、简单的固定位置。
 
自粘型:
   自粘型抛光布具有三层结构:表面磨抛层、超薄硬背基层和胶粘层。贺利氏Technocloth特有的三层结构保证了抛光布工作时zui佳平整度。同时也使得抛光布本身在FAS®固定系统盘上快速、简单的固定位置。
 
静电吸附型:
   静电吸附型抛光布同样具有三层结构:表面磨抛层、超薄硬背基层和XLAM®层。使用时,静电吸附型抛光布与XLAM®固定系统盘配合使用,快速、简单、平整度更佳。
 
磁性吸附型:
   磁性吸附型抛光布也是两层结构:表面磨抛层和柔软的Magnetic层。磁性吸附型抛光布避免了抛光布出现*性折痕和操作时出现伤口。与FMS®磁性固定系统盘配合使用,操作简单、方便。
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